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半導(dǎo)體無(wú)塵室操作使用須知

處理晶片時(shí)，必須戴上無(wú)纖維手套，使用清洗過(guò)的乾凈鑷子挾持晶片，請(qǐng)勿以手指或其他任何東西接觸晶片，遭碰觸污染過(guò)的晶片須經(jīng)清洗，方得繼續(xù)使用：

(1) 任何一支鑷子前端(即挾持晶片端)如被碰觸過(guò)，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請(qǐng)勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。

(2) 晶片清洗后進(jìn)行下一程序前，若被手指碰觸過(guò)，必須重新清洗。

(3) 把晶片放置於石英舟上，準(zhǔn)備進(jìn)爐管時(shí)，若發(fā)現(xiàn)所用鑷子有污損現(xiàn)象或晶片上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將晶片重新清洗，并立即更換乾凈的鑷子使用。

2. 晶片必須放置盒中，蓋起來(lái)存放於規(guī)定位置，儘可能不讓它暴露。

3. 避免在晶片上談話，以防止唾液濺於晶片上，在晶片進(jìn)擴(kuò)散爐前，請(qǐng)?zhí)貏e注意，防止上述動(dòng)作產(chǎn)生，若晶片上沾有纖維屑時(shí)，用氮?dú)鈽寚娭?/span>

4. 從鐵弗龍(Teflon)晶舟，石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上，取出晶片時(shí)，必須垂直向上挾起，避免刮傷晶片，顯微鏡鏡頭確已離晶片，方可從吸座上移走晶片。

5. 晶片上，若已長(zhǎng)上氧化層，在送黃光室前切勿用鉆石刀在晶片上刻記。

6. 操作時(shí)，不論是否戴上手套，手絕不能放進(jìn)清洗水槽。

7. 使用化學(xué)站或烤箱處理晶片時(shí)，務(wù)必將晶片置放於鐵弗龍晶舟內(nèi)，不可使用塑膠盒。

8. 擺置晶片於石英舟時(shí)，若晶片掉落地上或手中則必須重新清洗晶片，然后再進(jìn)氧化爐。

9. 請(qǐng)勿觸摸晶片盒內(nèi)部，如被碰觸或有碎晶片污染，必須重作清洗。

10. 手套，廢紙及其它雜碎東西，請(qǐng)勿留置於操作臺(tái)，手套若燒焦、磨破或纖維質(zhì)變多必須換新。

11. 非經(jīng)指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關(guān)閥控制鈕或把手。

12. 奇怪的味道或反應(yīng)異常的溶液，顏色，聲響等請(qǐng)即通知相關(guān)人員。

13. 儀器因操作錯(cuò)誤而有任何損壞時(shí)，務(wù)必立刻告知負(fù)責(zé)人員或老師。

14. 晶片盒進(jìn)出無(wú)塵室須保持乾凈，并以保鮮膜封裝，違者不得進(jìn)入。

15. 無(wú)塵室內(nèi)一律使用原子筆及無(wú)塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。

半導(dǎo)體無(wú)塵室操作使用須知由KLCFILTER風(fēng)淋室